イスラエル南部キリヤト・ガトにあるIntelの工場で水曜日に爆発があり、作業員2人が死亡、1人が重傷を負いました。火災には、半導体製造装置のプロセスチャンバー洗浄に使われる三フッ化窒素（NF3）が関与したと消防当局が説明しています。爆発の原因や工場の生産への影響は、現時点で明らかになっていません。
キリヤト・ガト工場で3人が死傷
爆発が起きたのは、イスラエル南部のキリヤト・ガトにあるIntelの工場です。負傷者は3人で、うち2人は病院へ搬送された後に死亡し、残る1人は集中治療室で重篤な状態にあります。
イスラエルの救急医療機関マゲン・ダビド・アドムは、負傷した3人全員が重度のやけどを負ったと発表しました。負傷者のうち2人には蘇生措置が行われました。
病院の発表によると、1人は搬送後に死亡が確認され、もう1人も負傷が原因で亡くなりました。
資材の移送中に爆発、原因は調査中
現場にいたキリヤト・ガト警察署長によると、工場のタンクへ資材を移している最中に爆発が発生しました。1台目のトラックが接続を外した後、別のトラックが接続したタイミングだったと説明しています。
警察署長は、現時点で犯罪行為や過失を疑う根拠はないとの見方を示しました。一方、爆発を引き起こした原因や、トラックが運んでいた物質は特定されていません。
イスラエル消防救助局は、危険物対応班を含む少なくとも8隊を現場に派遣しました。隊員らは閉じ込められた人がいないか捜索し、火災の鎮圧と危険物質の監視にあたりました。
NF3は装置の洗浄に使われるガス
消防救助局は、火災にNF3が関与したと説明しました。NF3は半導体製造装置のプロセスチャンバーを洗浄する用途があり、電子産業でエッチングにも使われています。
米国のパシフィック・ノースウェスト国立研究所（PNNL）の評価報告書によると、NF3は電子産業でチャンバー洗浄剤として広く使われています。
PNNLの報告書は、工場でNF3を扱う際には、断熱圧縮を防ぎ、意図しない場所で熱分解が起きないようにする必要があるとしています。また、設備設計ではボールバルブや鋭い曲がりを避けるよう求めています。
消火後も現場を冷却、生産への影響は不明
火が消し止められた後も、消防隊は二次事故を防ぐため現場を冷却しました。現場では新たな漏出の兆候はなく、住民や工場作業員を避難させる必要はないと警察署長が説明しました。
キリヤト・ガト市長は、作業が続く間は住民に現場へ近づかないよう呼びかける一方、住民に危険はないと述べました。
Intelは、死傷者やキリヤト・ガト工場の生産への影響について声明を出していません。同工場のFab 28では、プロセッサー、5G、AI関連製品を製造しています。
